為半導體續命 布魯克海文實驗室突破1nm制程工藝

為半導體續命 布魯克海文實驗室突破1nm制程工藝

更新日期:2019-6-2

黑科技來了!當Intel、TSMC及三星都在制程之路上越走越難,眼看止步5nm工藝的時候,美國布魯克海文國家實驗室的科研人員放出了必殺招,再次將工藝制程壓縮到了1nm。

這是由美國能源部DOE的布魯克海文國家實驗室創下的世界記錄,他們制造了一個尺寸為1nm的印刷設備,通過電子束印刷實現,并不是我們常見的光刻印刷技術。更重要的是,這套電子束印刷通過電子顯微鏡實現,電子敏感性材料在聚焦電子束的幫助下尺寸得以縮小,以至于單原子可以被超控,材料性能也被極大的改變,實現從導電到光電傳輸兩種狀態的交互傳輸。

其中1nm印刷使用的STEM掃描投射電子顯微鏡來實現,每一平方毫米能實現1萬億個特征點features密度,通過修正,STEM在5nm半柵極和氫氧硅酸鹽類抗蝕劑下實現2nm分辨率。

不過布魯克海文實驗室的研究距離量產還有很長距離,他們所用的材料并非硅基半導體而是聚甲基丙烯酸甲酯,光刻工藝使用的是電子束而非激光,但接下來方向已經非常明確,硅基材料試驗已經被提上議程。

竞技游戏竞猜盘口其實早在去年,同屬美國能源部的勞倫斯伯克利國家實驗室也宣布達到了1nm工藝,方式是通過納米碳管和二硫化鉬實現。如果需要投入商業量產,第一件事就是淘汰現有的激光光刻設備,無論哪家企業都承受不起這樣的沖擊,但至少實驗室1nm的成功研制告訴了大伙,半導體還有很長的路可以走,應該能撐到傳說中的The Machine或者量子計算機來救命。

原發布時間:2017-5-3 15:19:39

版權所有:http://www.xiayibayou.com 轉載請注明出處
186 6539 5611 發送短信
188体育平台 pt老虎机注册送礼金 葡京娱乐赌场网址 伟德足球 老葡京网投网站